小型立式管式炉是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业在可控多种气氛及真空状态下对金属，非金属及其它化合物进行烧结﹑熔化﹑分析而研制的理想设备。气体可从炉管下端通入，通过多孔石英板使样品颗粒悬浮在加热区域，进行沉积实验。

AFD系列管式炉以进口高温电阻丝、硅碳棒、硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构和宇电32段程序控温系统，可控硅控制，炉膛采用进口氧化铝多晶体纤维材料，能快速升温，可通气氛和抽真空。温场均衡性高、表面温度低、升降温速率快、节能等优点。有单管、双管、卧式、可开启式、立式、单温区、多温区等多种管式炉型。主要应用于大专院校，科研院所，工矿企业等实验和小批量生产之用。

工艺成熟;炉型结构简单；操作容易，便于控制，能连续生产乙烯、丙烯收率较高，产物浓度高；动力消耗少，热效率高；裂解气和烟道气的大部分可以设法回收；原料的适用范围随着裂解技术的进步而日渐扩大；可以多炉组合而大型生产。
操作方式：
  针对实验室的使用要求，装卸料采用间歇式手动装、卸料。装料时将料盒放置在料盆支架上，打开并取出炉管一端的密封端盖，放入带料盒的料盒支架，再将密封端盖安装在炉管法兰上并拧紧卡箍螺栓。然后通入工艺气氛，直到炉管内氧含量达到工艺要求时进行升温烧结。产品烧结工艺完成后，应继续通人小量的工艺气氛并进行降温，直到炉内温度低于工艺要求时，方可打开
管式炉按炉型分为：立式炉、圆筒炉、大型方炉；
按用途分为：化学反应炉、加热液体的炉子、气体加热炉、加热混合相流的炉子。
管式炉分：
1、真空管式炉、气氛管式炉
2、普通管式炉、旋转管式炉、多工位管式炉
3、分体管式炉、一体管式炉、立式管式炉、卧式管式炉
4、单温区管式炉、双温区管式炉、三温区(多温区)管式炉

AFD1200-50 1200℃迷你型真空气氛管式炉 采用双层壳体结构，炉膛材料采用高纯氧化铝，壳体两边安装有铝制散热器使得法兰温度小于80℃，内炉膛表面涂有1750℃进口氧化铝涂层材料提高反射率及炉膛洁净度。
适用范围：
主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，应用于高、中、低温CVD工艺，如碳纳米管的研制，晶体硅基板镀膜，金属材料扩散焊接以及真空或气氛下的热处理等。
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